氦質譜檢漏儀的檢漏方式

 

    氦質譜檢漏儀的檢漏方式通常有兩種，一種為常規檢漏，另一種為逆擴散檢漏。

 

    逆擴散檢漏

 

    是把被檢件接在分子泵出氣口一端，漏入的氦氣由分子泵出氣口逆著泵的排氣方向進入安裝在泵的進氣口端的質譜管內而被檢測。這一檢漏方式是基于分子泵對不同質量的氣體具有不同壓縮比(氣體在分子泵出氣口壓強與進氣口壓強之比)即利用不同氣體的逆擴散程度不同程度而設計的。

 

    逆擴散原理

 

    逆擴散方式檢漏允許被檢件內壓強較高，氦質譜檢漏儀可達300Pa(一般常規檢漏儀為0.05Pa以下)，適合檢大型容器或有大漏的器件，也適合吸槍檢漏。逆擴散方式還具有質譜管不易受污染，燈絲壽命長等優點。

 

    1、吸槍法

 

    被檢件充入高于大氣壓的探索氣氦，檢漏儀的檢漏口連接稱之為吸槍的氣體采集器。當試件有漏時，泄漏的氦氣被吸槍吸入檢漏儀，而被檢測。吸槍在試件表面移動，同時注視檢漏儀漏率指示的變化，一旦泄漏增加，吸槍所指位置即漏點所在。因此吸槍法也是能確定漏孔的檢漏方法。

 

    2、鐘罩法——測總漏率

 

    將被檢件與儀器檢漏口聯接抽真空，在被檢件外面罩以充滿氦氣的容器，如被檢件有漏孔，氦氣便由漏孔進入被檢件，Z終達到質譜管被檢測。所測漏率是被檢件的總漏率，不能確定有幾個泄漏點和每個漏點的準確位置。可以看出鐘罩法是基于噴吹法的一種檢漏方法。

 

    3、背壓法——測總漏率

 

    電子元器件進行氣密性檢測時常用背壓法。檢漏前用專用加壓容器向被檢件壓入氦氣(由壓力和時間控制壓入的量)，然后取出被檢件，吹去表面吸附氦后放入專用檢漏罐中，再將檢漏罐聯接到檢漏儀的檢漏口上，對檢漏罐抽真空，實施檢漏。若器件有漏，則通過該漏孔壓人的氦氣又釋放出來進入檢漏罐，Z終到達質譜管。用這種方法測得的漏率也是總漏率。

 

    4、輔助真空系統

 

    對子漏氣速率和放氣速率較大或者體積較大的被檢件，若直接與檢漏儀相連，氦質譜檢漏儀的真空度可能抽不上去，使檢漏儀無法工作。此種情況須加接輔助真空系統，提高對被檢件的抽速。Z簡單的輔助真空系統只需一個機械泵和兩個閥門，復雜的系統可由前級泵、次級泵、閥門、真空規及標準漏孔等組成。次級泵可用擴散系或羅茨泵，前級系Z好用氣鎮式機械泵。