規(guī)格型號：HTK - 箱式爐

設備說明：HTK—箱式爐HTK有三種不同的版本：石墨，金屬（鎢和鉬）或者陶瓷纖維。不同

的保溫材料可覆蓋更廣泛的應用。矩形爐體，前開門設計使加樣和取樣非常方便。HTK提供6種不同的尺寸供選擇。小體積8L，25L通常用于實驗室開發(fā)和研究。80L，220L，400L或600L主要用于生產系統試驗或大型生產。HTK GR保溫材料和加熱元件均為石墨，溫度2200°C，適合那些*熱處理應用。根據應用需要可配備石墨反應罐，該反應罐可以通入氣氛。對有氣體釋放的應用來說，反應罐可以保護加熱元件，延長爐子的使用壽命。配備反應罐后，溫度均勻性也有所改善，小于±10°C。石墨爐的可在10-3mbar真空度下使用，也可用于保護氣氛如氮氣/氬氣還有反應性氣體如氫氣，一氧化碳。HTK GR不能在氧氣環(huán)境下使用。鎢金屬爐（HTK W）和鉬金屬爐可用于真空和純的氣氛環(huán)境。工作真空度可達高級別真空5 x 10-6 mbar。若有需要甚至可達超高真空等級。常用氣氛包含：氮氣，氬氣，氫氣或混合氣體。爐子的加熱元件和保溫材料材質是一樣的。保溫材料為鎢和鉬制的防輻射擋板。有氣體導入或釋放或者需要提高溫度均勻性的應用可配備反應罐。HTK W溫度2200°C，HTK MO為1600°C。陶瓷纖維爐HTK KE 可用于自定義比例的含氧混合氣氛或純氧環(huán)境中。1350°C爐子加熱元件為鐵鉻鋁電阻絲，1800°C的爐子加熱元件為硅鉬棒。陶瓷纖維爐可用于惰性氣體環(huán)境，但是氣氛純度較低。可短時間內用于真空環(huán)境，由于保溫材料的多孔性，真空度只能達粗真空級別。HTK—箱式爐

優(yōu)勢

※金屬爐可提供精確定義的高純度氣氛環(huán)境（6N或更好）

※金屬爐可達真空度

※石墨爐可達溫度

※根據要求提供氫氣分壓操作

※HTK KE可在純氧環(huán)境下操作

※粉末樣品的卸樣控制

※用于質量控制的數據記錄

典型應用

HTK石墨爐：

熱解，燒結，硅化，石墨化，*陶瓷如SiC，SiN，BC，AlN和組合

材料

HTK金屬爐：

金屬粉末注射成型（MIM），無碳氣氛，燒結，鍍金屬等等

HTK陶瓷纖維爐：

陶瓷注射成型（CIM），空氣環(huán)境下排膠和燒結

技術特征

腔體的四面都有加熱元件。加熱元件置于爐子內腔的頂部，左右側和頂部。這種排列有助于提高溫度均勻性。對于大體積的爐子，腔體的前部和背部也有安裝加熱元件。體積增大則需要更多的加熱元件來保證良好的溫度均勻性。我們的設計保證HTK全系列爐子溫度均勻性都能達到。HTK W , HTK MO, HTK GR 和HTK KE周圍都有水冷夾層，此特點將HTK定義為冷壁爐。冷卻水通過雙重夾層導入。若有應用需要，HTK GR的溫度可達到3000°C。該溫度范圍需要特殊的爐子設計。除了合適的保溫材料厚度，還需要特殊幾何形狀的加熱元件和控溫用高溫計。高溫計通過光學方法直接測量熱輻射，并沒有插入爐內，而是通過窗口來探測。該原理只有在發(fā)射足夠輻射量時才能工作，需要的輻射量在400°C以上才能夠發(fā)射，低于400°C采用移動熱電偶來控制溫度。因為碳蒸汽壓力的增加，3000°C僅適用于惰性氣體環(huán)境。碳蒸汽壓力會導致碳被釋放到大氣中，對碳敏感的樣品則需要使用金屬爐。更多關于3000°C爐子的信息請見SERIE 3000。