● 視場寬闊，可得清晰無閃爍正像 ● 高精度測量，同時具有大測量范圍和高精度，適用于各種測量 ● 可選用高NA物鏡，滿足長工作距離的測量要求 ● 照明裝置（反射/透射）可選用高亮度LED的照明或鹵素照明 ● 利用可變孔徑光闌進行無衍射觀察測量 ● 各類尺寸的標準工作臺 ● 快速釋放裝置便于測量工件大或測量工件數量多的快速移動工作臺 ● 高位目鏡觀察 ● 便捷CCD圖像成像，可選配多種CCD數碼相機
偏光觀察 微分干涉對比觀察
觀察過濾后只有一個方向振動的光。適于觀察具有 在檢測金屬、液晶和半導體表面的微小劃痕和階差時很有效。
特殊光學特性的材料，如礦石和液晶。
暗視場觀察 亮視場觀察
擋住直射到物體上的光，只觀察散射光，通過高對比度能 最普通的觀察方式，直接觀察從工件表面反射的光。
觀察到在亮視場看不到的劃痕和粉末。
新功能增強Z軸測量精度
● 輔助對焦（FA）
新近研發的分光棱鏡輔助對焦（FA）提供更銳利的圖案，可在Z軸測量期間提供精確對焦。由于不同物鏡焦深差異導致的測量誤差被降到。
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對焦 | 前端對焦 | 后端對焦 |
規格
● 無限遠系統，管鏡200mm
● 傾斜角度30°，瞳孔距離55-75mm，正像
● 高眼點，大視場WF10/22
● 鼻輪螺紋M26X0.706
● Z軸的長度180mm，微動精度0.002mm，測量精度（at20℃），XY-軸的（2.5 0.02L）um，L=測量長度（mm）在沒有放物體分辨率為0.001mm
● 12V50W反射鹵素燈
● 3W高亮度LED光源
● 可配置輔助調焦裝置（FA）
技術參數
型號 | VMM-8Ⅰ型 | VMM-8Ⅱ型 | VMM-8 Ⅲ型 | VMM-8 Ⅳ型 | VMM-12Ⅰ型 | VMM-12Ⅱ型 | VMM-12Ⅲ型 | VMM-12 Ⅳ型 | ||
鏡筒 | 1×光學管徑，雙目目鏡，帶有CCD1/2靶面接口 | |||||||||
觀察圖像 | 正像 | |||||||||
觀測方法 | 輔助對焦系統 | - | - | 頭部或照明器FA系統 | 頭部或照明器FA系統 | - | - | 頭部或照明器FA系統 | 頭部或照明器FA系統 | |
微分干涉對比 | 可選微分觀測對比 | |||||||||
目鏡 | 10X(視場直徑：25mm)，可選十字分劃板，可選：視場直徑：22mm | |||||||||
物鏡(100x選配) | 95mm 2x, | 60mm 5x, | 95mm 2x, | 60mm 5x, | 95mm 2x, | 60mm 5x, | 95mm 2x, | 60mm 5x, | ||
照明裝置 | 反射照明 | 內置孔徑光闌，LED光源，無極亮度調節，可選鹵素照明 | ||||||||
透射照明 | 白色LED照明，無極亮度調節 | |||||||||
工作臺 | XY測量范圍 | 200*100 | 200*100 | 200*100 | 200*100 | 300*200 | 300*200 | 300*200 | 300*200 | |
快速釋放裝置 | X軸和Y軸（標配） | |||||||||
調零開關 | X軸和Y軸（標配） | |||||||||
數顯計器 | 顯示軸 | 2軸或3軸 | ||||||||
分辯率 | 0.0005mm（可選0.00002mm） | |||||||||
具體配置和規格請，
