概述
SE-L 是一款全自動高精度光譜橢偏儀，集眾多科技技術，采用行業前沿創新技術，配置全自動測量模塊。通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析。
。高精度自動測量光學橢偏測量解決方案
。全自動變角、調焦等控制平臺，一鍵快速測量
。軟件交互式界面配合輔助向導式設計，易上手、操作便捷
。豐富的數據庫和幾何結構模型庫，保證強大數據分析能力
產品特點
采用氘燈和鹵素燈復合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)；
高精度旋轉補償器調制、PCRSA配置，實現Psi/Delta光譜數據高速采集；
全自動橢偏測量技術，基于行業電機控制技術，全自動調整測量角度，高精度控制樣件臺，實現樣件快速自動對準找焦；
頤光技術確保在寬光譜范圍內，提供優質穩定的各波段光譜；
數百種材料數據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；
產品應用
半導體薄膜結構：介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜，激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等；
平板顯示：TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等；
光伏太陽能：光伏材料（如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等）反射率，消光系數測量，膜層厚度及表面粗糙度測量等；
功能性涂料：增透型、自清潔型、電致變色型、鏡面性光學涂層，以及高分子、油類、Al2O3表面鍍層和處理等；
生物和化學工程：有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理等；
塊狀材料分析：固體（金屬、半導體、介質等）或液體（純凈物或混合物）的折射率n和消光系數k表征，玻璃新品研發和質量控制等。
建議配件
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| 溫控臺 | Mapping擴展模塊 | 真空泵 | 透射吸附組件 |
