微米級光斑分析儀μBeam
uBeam系列光斑分析儀是CCD型光斑分析儀，其CCD面積3.2x2.4mm，波長范圍350~1310nm，像素~4x4μm，配合10倍到100倍物鏡放大，實際像素可以變成0.4μm到0.04μm，可以測量小至0.5um的光束。uBeam光束分析儀可以用于實時測量和顯示亞微米范圍的連續或脈沖激光、光纖以及激光二極管的光束輪廓，主要是聚焦光斑，因此也稱為聚焦光斑測試儀。
| * 測量最小至0.5µm光束（FWHM） * 高分辨率CCD面積3.2x2.4mm * 像元尺寸~4x4μm，配上物鏡最小0.04x0.04um * 波長范圍350~1310nm * x10、x20、x50、x100等不同倍率的物鏡 * 長工作距離、光學變焦 * 內置可移動衰減片NG10 | 
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| 主要參數 | |
| 型號 | uBeam |
| 相機類型 | CCD1/4" |
| 光譜范圍 | 350–1310nm |
| 物鏡放大倍數 | 100x、50x、20x、10x |
| 衰減器 | 內置可卸NG10衰減片 |
| 尺寸 | 163.5 x83mm |
| 透鏡工作距離 | 6.0mm(100x),13mm(50x),33.5mm(10x),20mm(20x) |
| 最小可測光束大小 | 0.5µm（100x) |
| 幀速 | 25Hz |
uBeam光斑分析儀主要型號
型號：µBeam-X-USB 2.0，完整的聚焦光斑系統，配置USB2.0通信接口和適用于Windows XP的操作軟件，可選不同倍率的物鏡
型號：µBeam-X-SA: 完整的聚焦光斑系統，具有獨立的測量探頭和控制模塊，可選不同倍率的物鏡；
可選物鏡X (Objective magnification) : x10，x20，x50，x100
