1. 應用
1) MPCVD鉆石培育。
2) MOCVD半導體。
3) 電子芯片。
4) 色譜分析。
5) 粉末冶金。
6) 核能
7) 光伏。
2. 特點
1) 基于鈀膜的氫分離，輸出氫純度高（≥7N）。
2) 壽命長，維護成本低。
3) 安裝便捷，使用簡單。
4) 原料氫氣適配廣。
5) 流量可達5NL/min。
3. 技術規格
型號
HP-005
基本參數
純化原理
金屬鈀膜/氫氣純化
高純氫輸出純度①
≥99.99999%（純度）
高純氫輸出流量
5NL/min（氫氣流量隨壓力變化曲線見下圖）
原料氫要求
純度≥99.99%
原料氫輸入壓力
≤1 Mpa
高純氫輸出壓力
≤5 barg
原料氫輸入接口
1/4"VCRM
高純氫輸出接口
1/4"VCRM
廢氣輸出接口
1/4"雙卡套接頭
工作溫度
（-10～55）℃
環境濕度
（0～85）%RH
尺 寸
600 L*450 W*500 H（mm）
重 量
25 KG
工作電源
230V/50-60Hz
功率
1KW
① 輸出高純氫純度與原料氫氣純度有關，原料氫純度越高，輸出氫氣純度越高。
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