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TOYOKOKAGAKU東橫化學清洗機M300

SiC功率器件熱處理設備Ailesic-2000,Ailesic-1400,Ailesic-1500,Ailesic-1700,Ailesic-X

清洗機M300,M800；ALD設備SAL1000

活化退火設備Ailesic-2000特征：

支持2000°C的SiC激活退火。

新開發的加熱技術實現了超快速加熱和冷卻特性。

滿足客戶對小批量短時間處理的需求。

通過相同的加熱技術和高精度溫度控制技術實現穩定的工藝性能，有助于穩定生產。

從開發到6英寸高產能量產的豐富陣容。

在大規模生產工廠中的良好運營記錄。

應用：活化退火。

CMP漿料供應系統的特點：

并聯供電系統穩定供電。通過觸摸屏輕松操作。

高精度復合（可從多種復合方式中選擇復合方式。）。

自動沖洗功能。透明內膽，內部狀態一目了然。

化學恒流量控制裝置概述：

化學恒流控制裝置主要用于CMP漿料的供給，也可用于純水、氫氟酸等多種化學物質的混合。

與傳統的使用稱量罐和混合罐的批量式供應設備相比，該機組具有：

1. 在線混合限度地減少化學品消耗

2. 批量供應設備無需清洗罐

3. 設備尺寸可以減小

M300是一款半自動FOUP/carrier 清洗機，結構緊湊，可一次處理大量工件。可處理晶圓載具、SMIF POD、各種傳送箱、300mm用FOUP、FOSB、RSP及各種工件。這是一種批量處理型清潔/干燥設備，其中工件被設置在安裝在腔室內被稱為柱的架狀框架上的插入物中，然后在旋轉的同時進行清潔和干燥。刀片的形狀因工件而異，只需輕輕一按即可更換，因此可輕松切換對象工件。

特征：高容量/小占地面積。

超凈噴霧系統。擁有成本低。

用于干燥的紅外線加熱器系統。

通過一鍵式更換刀片支持各種工件。

SAL1000 ALD設備是一款可安裝在桌面上的緊湊型研發設備。

內置兩種前驅體，沉積性能在φ100以內±3%（AlO3）以內。

此外，通過使設備更緊湊，我們減少了零件數量。

特征：

沉積過程可以在前觸摸屏上設置，壓力和操作狀態可以檢查。

從抽真空到成膜的設定過程自動進行，成膜完成后，按下排氣按鈕即可取出基板。

配備2個前驅體系統，兼容基板高達φ4"。

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