伴隨物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、新能源汽車、消費(fèi)類電子產(chǎn)品等持續(xù)增長，gao端芯片需求不斷增加，芯片制程不斷減小，集成電路相關(guān)的材料的檢測(cè)要求也達(dá)到了新的高度。與集成電路制程相關(guān)的晶圓、襯底材料、濕電子化學(xué)品、電子特氣、光刻膠等，以及車間環(huán)境空氣和超純水中痕量的金屬離子、非金屬陰離子和陽離子的xian量越來越低。為滿足半導(dǎo)體制程需求，國際半導(dǎo)體設(shè)備與材料協(xié)會(huì)(semi)制定的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)在不斷提升，國內(nèi)集成電路材料企業(yè)也在不斷提升產(chǎn)品質(zhì)量，對(duì)相關(guān)雜質(zhì)的xian量要求正在接近或超越Semi標(biāo)準(zhǔn)。
2022年9月27日，賽默飛世爾科技與上海市電子化學(xué)品計(jì)量檢測(cè)平臺(tái)在集成電路及材料研發(fā)聚集地上海張江，聯(lián)合舉辦了2022集成電路材料檢測(cè)gao端論壇。本次會(huì)議特別邀請(qǐng)上海計(jì)量測(cè)試研究院材質(zhì)中心理化室主任薛民杰、集成電路產(chǎn)業(yè)中心主任李春華，以及國內(nèi)半導(dǎo)體材料及制程yi流企業(yè)和科研院所的眾多資深專家，就集成電路材料檢測(cè)領(lǐng)域的發(fā)展現(xiàn)狀、技術(shù)應(yīng)用、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)等方面進(jìn)行了熱烈充分的交流與探討。
伴隨物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、新能源汽車、消費(fèi)類電子產(chǎn)品等持續(xù)增長，gao端芯片需求不斷增加，芯片制程不斷減小，集成電路相關(guān)的材料的檢測(cè)要求也達(dá)到了新的高度。與集成電路制程相關(guān)的晶圓、襯底材料、濕電子化學(xué)品、電子特氣、光刻膠等，以及車間環(huán)境空氣和超純水中痕量的金屬離子、非金屬陰離子和陽離子的xian量越來越低。為滿足半導(dǎo)體制程需求，國際半導(dǎo)體設(shè)備與材料協(xié)會(huì)(semi)制定的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)在不斷提升，國內(nèi)集成電路材料企業(yè)也在不斷提升產(chǎn)品質(zhì)量，對(duì)相關(guān)雜質(zhì)的xian量要求正在接近或超越Semi標(biāo)準(zhǔn)。
2022年9月27日，賽默飛世爾科技與上海市電子化學(xué)品計(jì)量檢測(cè)平臺(tái)在集成電路及材料研發(fā)聚集地上海張江，聯(lián)合舉辦了2022集成電路材料檢測(cè)gao端論壇。本次會(huì)議特別邀請(qǐng)上海計(jì)量測(cè)試研究院材質(zhì)中心理化室主任薛民杰、集成電路產(chǎn)業(yè)中心主任李春華，以及國內(nèi)半導(dǎo)體材料及制程yi流企業(yè)和科研院所的眾多資深專家，就集成電路材料檢測(cè)領(lǐng)域的發(fā)展現(xiàn)狀、技術(shù)應(yīng)用、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)等方面進(jìn)行了熱烈充分的交流與探討。
上海計(jì)量測(cè)試研究院集成電路產(chǎn)業(yè)中心主任李春華就ICP-MS在集成電路行業(yè)的解決方案進(jìn)行了詳細(xì)解讀。李主任從事檢測(cè)分析13年，參與起草國家標(biāo)準(zhǔn)12項(xiàng)，在濕電子化學(xué)品、超純水、AMC、硅片、金屬靶材、電子特氣和光刻膠等集成電路相關(guān)材料中痕量和超痕量雜質(zhì)檢測(cè)方面有豐富的經(jīng)驗(yàn)，所屬實(shí)驗(yàn)室在多種濕電子化學(xué)品、超純水中痕量無機(jī)金屬離子、無機(jī)非金屬陰離子和陽離子等檢測(cè)項(xiàng)目已通過CNAS和CMA認(rèn)證。
李主任著重介紹了集成電路產(chǎn)業(yè)中的關(guān)鍵材料濕電子化學(xué)品和電子特氣的檢測(cè)要求，對(duì)標(biāo)semi標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)探討了國內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)狀及標(biāo)準(zhǔn)提高的可行性，ICPMS技術(shù)在集成電路行業(yè)中的應(yīng)用及發(fā)展，分享了上海計(jì)量測(cè)試研究院集成電路產(chǎn)業(yè)中心與賽默飛世爾科技合作開發(fā)的多項(xiàng)濕電子化學(xué)品、電子特氣、光刻膠等材料中痕量金屬離子檢測(cè)方法。針對(duì)超痕量分析，李主任還現(xiàn)場(chǎng)解答了與會(huì)者在實(shí)驗(yàn)過程中遇到的難題，詳細(xì)解讀了實(shí)驗(yàn)室環(huán)境和人為因素對(duì)檢測(cè)結(jié)果的影響。
來自賽默飛的應(yīng)用專家潘廣文、徐牛生、王贇杰就賽默飛離子色譜、高分辨LCMS以及GDMS產(chǎn)品線在集成電路行業(yè)應(yīng)用解決方案進(jìn)行了詳細(xì)解讀。并與李春華主任及其他參會(huì)專家就半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、未來發(fā)展趨勢(shì)、儀器分析難點(diǎn)等問題進(jìn)行了深入討論，現(xiàn)場(chǎng)氣氛非常熱烈。
半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用方案
離子色譜應(yīng)用專家潘廣文做了題為離子色譜在集成電路行業(yè)的應(yīng)用方案報(bào)告，就離子色譜在集成電路的成熟方案、先進(jìn)方法和前沿問題為在座專家做了詳細(xì)匯報(bào)。
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在集成電路用量最大的超純水檢測(cè)方面，賽默飛根據(jù)Semi F63的和ASTM D5127標(biāo)準(zhǔn)提供了全面有效的陰陽離子測(cè)定方案，該方案在RSD?5%的前提下，滿足20ppt的定量限要求，且連續(xù)7天24小時(shí)不停機(jī)，樣品隨到隨測(cè)，全程只需擺放樣品，近乎“零操作”；
國內(nèi)廠家生產(chǎn)的酸、堿、有機(jī)試劑三大系列濕電子化學(xué)品中痕量陰陽離子的檢測(cè)水平已經(jīng)達(dá)到亞ppb~ppb級(jí)別，遠(yuǎn)超semi標(biāo)準(zhǔn)；
在光刻和刻蝕領(lǐng)域，賽默飛與行業(yè)相關(guān)生產(chǎn)企業(yè)合作開發(fā)了光刻膠、研磨液、拋光液、電子特氣等多個(gè)先進(jìn)方案；
同時(shí)潘老師的報(bào)告還展示了目前賽默飛正在與企業(yè)合作開發(fā)的光刻相關(guān)試劑、硝酸、反應(yīng)型電子特氣以及新型管道包裝材料中痕量陰離子測(cè)定方案。
LC-MS全國應(yīng)用經(jīng)理徐牛生為與會(huì)專家匯報(bào)了賽默飛的高分辨質(zhì)譜設(shè)備在光刻膠配方分析中的解決方案。
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賽默飛高分辨質(zhì)譜具有高超的質(zhì)量精度和靈敏度，可以精準(zhǔn)分辨加合狀態(tài)和不同峰簇之間的同位素干擾，豐富的碎片和質(zhì)量精度可以幫助判斷化合物結(jié)構(gòu)組成，正負(fù)離子同時(shí)掃描可以獲得更多的化合物信息，完善的質(zhì)譜譜庫為客戶在未知物匹配分析方面提供了強(qiáng)有力的支持。對(duì)光刻膠、濕電子化學(xué)品中未知物的探索和反應(yīng)機(jī)理拓展將促進(jìn)相關(guān)行業(yè)的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)不斷提升。
賽默飛GD-MS專家王贇杰為在座專家詳細(xì)介紹了GD-MS(輝光放電質(zhì)譜法)的使用特點(diǎn)和應(yīng)用領(lǐng)域。輝光放電質(zhì)譜法采用固體直接進(jìn)樣技術(shù)，具有樣品制備簡(jiǎn)單，背景低，測(cè)試高效等優(yōu)點(diǎn)。
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Element GD采用雙模式快速流離子源，連續(xù)直流放電具有高濺射效率，高分析靈敏度和低的記憶效應(yīng)特點(diǎn)，脈沖放電適合于非導(dǎo)體、低熔點(diǎn)金屬和鍍層分析，并結(jié)合高分辨率磁質(zhì)譜確保無干擾分析。使Element GD在硅和碳化硅表面和體相雜質(zhì)、6N+級(jí)高純銅、高純鉬、5N級(jí)高純金及氧化銦錫ITO等濺射靶材中痕量雜質(zhì)分析中得到廣泛的應(yīng)用。賽默飛與客戶合作，充分利用Element GD的優(yōu)異性能，服務(wù)并yin領(lǐng)高純金屬靶材以及碳化硅等三代半導(dǎo)體材料檢測(cè)的新技術(shù)和新標(biāo)準(zhǔn)。
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