等離子清洗機

在實際生產(chǎn)和實驗中，等離子清洗設(shè)備一些重要的部件會隨著使用時間的推移產(chǎn)生不同程度的氧化、老化、腐蝕等問題，會是引起等離子清洗設(shè)備達不到除膠效果的原因，

例如反應(yīng)腔、電極、托板架、氣體的壓力等。以下介紹了幾個關(guān)鍵部位保養(yǎng)前后的效果以及如何進行保養(yǎng)。

腔體的清潔

電極與托板架的保養(yǎng)

1.托板架和電極長時間使用后會附著氧化層，同時采用等離子體處理烴基材料時，一段時間后在托板架、電極，RF導(dǎo)電桿上會積累一層薄的烴基殘留物，這些殘留物和

氧化層是無法用酒精擦拭掉的。應(yīng)依據(jù)附著物的量對電極、托板架進行翻新維護能保證除膠的穩(wěn)定。

2.清洗材料要求：氫氧化鈉、硫酸、城市用水和蒸餾水。注意：不要使用手磨機、砂紙或磨蝕性噴砂處理等機械方法清潔；氫氧化鈉溶液會與鋁發(fā)生劇烈的化學(xué)反應(yīng)，

應(yīng)小心謹慎以確保僅在所需的時間內(nèi)清除沉積物；反應(yīng)中會生成具有潛在爆炸性的氫氣，因此工作區(qū)域應(yīng)保持良好的通風(fēng)。

將拆下的電極沉浸在10%的氫氧化鈉溶液內(nèi)。在沉浸時每2 min檢查電極一次，直到除 去殘留物。實際清潔時間取決于積累在每個電極上的殘留物數(shù)量。用城市用水徹

底沖洗電極3分鐘。

將電極浸在硫酸和水（按重量為 5%）的溶液中一分鐘（不能干燥）后，立即進入下一步操作（這一步主要去除氧化層，干燥以后氧化層會再次附著，難以沖洗）用蒸餾水

沖洗電極兩次，每次3 min。使電極干燥 。

定期保養(yǎng)計劃

等離子設(shè)備在使用過程中，腔體內(nèi)出現(xiàn)的一些殘留物和氧化層，在前期發(fā)展階段，該薄層并不影響設(shè)備的運行或成品。但是經(jīng)過持續(xù)的運轉(zhuǎn)后，發(fā)現(xiàn)了除膠效果不穩(wěn)定，能

察覺到微小改變，所以在使用一段時間之后是需要將托板架與電極進行清洗翻新。

同時設(shè)備出現(xiàn)的故障也直接體現(xiàn)設(shè)備的保養(yǎng)的程度。如經(jīng)適當(dāng)?shù)木S修、翻新，電極的使用壽命可達到預(yù)期使用的值。那么通過等離子清洗設(shè)備的原理和構(gòu)成制定可行性

保養(yǎng)計劃很關(guān)鍵。

等離子設(shè)備的三大條件是真空環(huán)境（真空機組，真空檢測儀，腔體的密閉）、高能量（射頻電源、溫度、工藝氣體）和介質(zhì)（腔體、電極、托板架）組成。那么等離子設(shè)備

的保養(yǎng)應(yīng)從以上這些方面進行，根據(jù)保養(yǎng)項目劃分周期分為每日、每周、每月、半年、每年、2~3年。