摘要 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)PSKEVOLITE2，2011年設(shè)備，可對(duì)12英寸晶圓進(jìn)行蝕刻工藝加工

摘要 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)PSKSUPRAIII，2013年設(shè)備，可對(duì)12英寸的晶圓進(jìn)行刻蝕工藝處理

摘要 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)PSKSUPRAVM，2013年設(shè)備，可對(duì)12英寸晶圓進(jìn)行加工處理

摘要 二手PSK刻蝕機(jī)TERA21現(xiàn)貨供應(yīng)，2004年設(shè)備，能對(duì)12英寸晶圓進(jìn)行加工，打包封裝完成隨時(shí)可以發(fā)貨

摘要 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)SAMCOICP-RIE-212IP，ICP刻蝕系統(tǒng)，2007年設(shè)備，封裝完成，隨時(shí)發(fā)貨

摘要 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)SAMCOPD-160IP，2001年設(shè)備，高密度等離子氣相化學(xué)沉積系統(tǒng)

摘要 SAMCO二手刻蝕機(jī)PD-200D現(xiàn)貨供應(yīng)，1996年設(shè)備，可對(duì)8英寸晶圓進(jìn)行刻蝕處理，便宜處理，隨時(shí)發(fā)貨

摘要 SAMCO二手刻蝕機(jī)RIE-10N現(xiàn)貨供應(yīng)，1996年設(shè)備，可對(duì)8英寸大小的晶圓進(jìn)行蝕刻處理

摘要 SAMCO二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)RIE-200IP，2007年設(shè)備，IC等離子刻蝕

摘要 二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)SAMCORIE-200IPC，2006年設(shè)備，已打包封裝完成，隨時(shí)發(fā)貨

摘要 二手翻新現(xiàn)貨SAMCO刻蝕機(jī)RIE-200L，2004年設(shè)備，現(xiàn)貨，可隨時(shí)發(fā)貨

摘要 SAMCO刻蝕機(jī)RIE-200NL現(xiàn)貨供應(yīng)，2007年設(shè)備，RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

摘要 SAMCO刻蝕機(jī)RIE-212IPC二手現(xiàn)貨供應(yīng)，2009年設(shè)備，針對(duì)8英寸晶圓的ICP刻蝕系統(tǒng)

摘要 SAMCO刻蝕機(jī)RIE-331IPC，2012年設(shè)備，干法刻蝕系統(tǒng)

摘要 SAMCO刻蝕機(jī)UV-2二手現(xiàn)貨供應(yīng),2018年新設(shè)備，可對(duì)6-8英寸的晶圓進(jìn)行處理

摘要 SAMCO刻蝕機(jī)UV-300H二手現(xiàn)貨供應(yīng)，2007年設(shè)備，可隨時(shí)發(fā)貨

摘要 ULVACCE-300I二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨供應(yīng)，2007年設(shè)備，處理3英寸晶圓，刻蝕材料：Mo,TiN,NbN,Si

摘要 ULVAC刻蝕機(jī)ENVIROII現(xiàn)貨供應(yīng)，2009年設(shè)備，可加工8英寸晶圓

摘要 ULVAC刻蝕機(jī)FRE-200E二手現(xiàn)貨，2012年設(shè)備，打包完成，隨時(shí)發(fā)貨

摘要 ULVAC刻蝕機(jī)NA1000二手現(xiàn)貨供應(yīng)，2006年P(guān)lasmaasher設(shè)備

摘要 ULVACNE550二手刻蝕機(jī)，2005年設(shè)備，打包完成，現(xiàn)貨供應(yīng)，隨時(shí)發(fā)貨

摘要 二手刻蝕機(jī)ULVACNE-730，2002年設(shè)備，ICP干法刻蝕系統(tǒng)

摘要 ULVACNE-5700二手刻蝕機(jī)，2007年設(shè)備，可對(duì)6英寸晶圓進(jìn)行干法蝕刻工藝處理

摘要 ULVACNE-7000二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨，1996年設(shè)備，加工4英寸晶圓，金屬刻蝕機(jī)

摘要 ULVAC二手刻蝕機(jī)NE-950EX現(xiàn)貨供應(yīng)，2011年設(shè)備，干法刻蝕機(jī)

摘要 ULVACPHOENIX愛(ài)發(fā)科二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨，1998年設(shè)備，可對(duì)6-8英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻處理

摘要 ULVAC二手現(xiàn)貨刻蝕機(jī)RMD-200M，2000年設(shè)備，多腔室，可對(duì)12英寸晶圓進(jìn)行加工

摘要 CANON/ANELVA刻蝕機(jī)I-1060SVIIPLUS-1，2003年設(shè)備，可針對(duì)8英寸晶圓進(jìn)行刻蝕工藝處理

摘要 CANON/ANELVA刻蝕機(jī)ILD4100，2005年設(shè)備，打包封裝完成，隨時(shí)可以發(fā)貨

摘要 SEZ/LAMRESEARCH刻蝕機(jī)203二手現(xiàn)貨供應(yīng)，旋轉(zhuǎn)刻蝕機(jī)，可對(duì)4-8英寸的晶圓進(jìn)行蝕刻加工處理

摘要 SEZ/LAMRESEARCH304刻蝕機(jī)二手現(xiàn)貨供應(yīng)，2004年設(shè)備，旋轉(zhuǎn)刻蝕機(jī)

摘要 SEZ/LAMRESEARCH刻蝕機(jī)323現(xiàn)貨供應(yīng)，2012年設(shè)備，可加工8~12英寸晶圓

摘要 SEZ / LAM RESEARCH 刻蝕機(jī)4300二手現(xiàn)貨供應(yīng)

摘要 GASONICS/NOVELLUSPEPIRIDIADL二手刻蝕機(jī)現(xiàn)貨制造商：GASONICS/NOVELLUS模型：PEPIRIDIADL類別：ETCHERS/ASHERS年份：2006年晶圓尺寸：8"設(shè)備詳情：Stripper/Asher

摘要 GASONICS/NOVELLUSSIERRA刻蝕機(jī)二手現(xiàn)貨供應(yīng)，已打包封裝完成，下單即可發(fā)貨

摘要 二手刻蝕機(jī)OXFORDPLASMALAB100現(xiàn)貨供應(yīng)，2000年設(shè)備，可多3~8英寸的晶圓進(jìn)行加工處理

摘要 離子束刻蝕IBE

摘要 CIONE系列Mini 等離子反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

摘要用于沉積納米級(jí)薄膜、納米粉末包覆、長(zhǎng)深孔樣品鍍膜;具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生產(chǎn)型ALD;具備近100種膜層工藝。應(yīng)用領(lǐng)域：芯片封裝、半導(dǎo)體High-k介電層、納米涂層、3D涂層、鋰電池、催化劑、太陽(yáng)能電池、5G通訊（SAW器件...

摘要Laser MBELaser MBE特點(diǎn)模塊化概念，Laser MBE可以輕松升級(jí)到傳輸模塊或其他模塊UHV PLD主腔室、利用Load-lock實(shí)現(xiàn)襯底和靶材的UHV傳輸*的工藝自動(dòng)化功能，可實(shí)現(xiàn)超晶格生長(zhǎng)溫度測(cè)量準(zhǔn)確的耐氧襯底加熱器，1000 ℃，也可以選配激光加...

摘要 這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當(dāng)今晶圓、光掩模和基板的前沿應(yīng)用的特殊工藝需求而設(shè)計(jì)。

摘要RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)NRE-3500（A）全自動(dòng)RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)概述：獨(dú)立式RIE反應(yīng)離子刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持到...

摘要 專業(yè)的沉積設(shè)備制造商，為各個(gè)領(lǐng)域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案：電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、離子泵等。

摘要NRE-4000型RIE-PE刻蝕機(jī)：提供PC控制的PE刻蝕RIE刻蝕一體機(jī)，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2“的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持Z大到12“的晶圓...

摘要NRE-3000型RIE-PE刻蝕機(jī)：PC控制的RIE刻蝕PE刻蝕系統(tǒng)，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載.腔體有兩個(gè)端口:一個(gè)帶有2“的視窗,另一個(gè)空置用于診斷.該系統(tǒng)可以支持Z大到12“的晶圓片。腔體為超凈設(shè)計(jì)...