摘要 浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機技術(shù)參數(shù)提拉行程：0～150mm（可定制行程）提拉速度范圍：1～55000μm/s，小分辨率 1μm/s

摘要浸漬提拉鍍膜 涂膜提拉機 提拉涂膜機型號：AOD-HTDC-300浸漬提拉鍍膜 涂膜提拉機 提拉涂膜機是適用于溶膠-凝膠法（Sol--Gel法，簡稱SG法）制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器。核心部件采用進口配件，精準控制提拉速度，多次重復鍍膜無位置偏差。提拉速度、...

摘要浸漬提拉鍍膜機/提拉鍍膜機/鍍膜機 型號：DP-100產(chǎn)品應用本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中，通過預設(shè)置的浸漬時間、提拉速度、提拉度、鍍膜次數(shù)等參數(shù)，將浸漬后的基片以定速度慢慢提拉起來，在基片的表面形成層納米的薄膜。膜層厚...

摘要浸漬提拉鍍膜機/提拉鍍膜機/鍍膜機 型號：DP-200?參數(shù)1. 提拉速度范圍：10～5000 μm/s，Z小分辨率1μm/s；2. 適用基片尺寸：MIN 10×10 mm，MAX 200×200 mm，厚度MAX 10mm；3. 浸漬時間：1～...

摘要浸漬提拉鍍膜機/提拉鍍膜機/鍍膜機 型號：DP-300. 產(chǎn)品應用本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液中，通過預設(shè)置的浸漬時間、提拉速度、提拉度、鍍膜次數(shù)等參數(shù)，將浸漬后的基片以定速度慢慢提拉起來，在基片的表面形成層納米的薄膜。膜...

摘要 恒溫型 浸漬提拉鍍膜機 垂直提拉機 提拉涂膜機 鍍膜機 型號：DP-100H提拉速度、提拉度、浸漬時間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時間均連續(xù)可調(diào)、控制。對鍍膜基質(zhì)無殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運行穩(wěn)定、工作時液面無振動，可大提實驗精度與實驗效率。

摘要 中瑞祥高校浸漬提拉鍍膜提拉機 位置精度：lt;0.01mm#183; 浸漬時間：1～9999s，小分辨率 1s#183; 鍍膜次數(shù)：1～9999 次，少 1 次；

摘要ZRX-29319實驗室浸漬提拉鍍膜機是適用于溶膠-凝膠法（Sol--Gel法，簡稱SG法）制備薄膜的浸漬提拉法的款精度儀器。核心部件采用口配件，控制提拉速度，多次重復鍍膜無位置偏差。提拉速度、提拉度、浸漬時間、循環(huán)鍍膜次數(shù)、下降速度、停留時間均可以通過程序控制。適用...

摘要 產(chǎn)品描述：HMD S真空 鍍膜機 用途概述 HMDS化學名叫六甲基二硅胺烷（別名六甲基二硅氮烷），HMDS真空鍍膜機又稱HMDS基片預處理系統(tǒng)，指需在低真空度下進行的鍍膜。喆圖HMDS真空鍍膜機對箱體內(nèi)預處理過...

摘要※　系列產(chǎn)品參數(shù)型號項目DH-8DH-14DH-18DH-26DH-26A真空室尺寸　　　mmΦ800×1100Φ1250×1500Φ1600×1750Φ1600×2250Φ2600×2100多弧靶數(shù)量　　　只814182626...

摘要 Nb3Sn薄膜擴散鍍膜機

摘要 JP系列磁控濺射鍍膜機

摘要 浸漬提拉鍍膜機浸漬提拉鍍膜機是適用于溶膠-凝膠法（Sol--Gel法，簡稱SG法）制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器

摘要 Leica EM ACE600是的多用途高真空薄膜沉積系統(tǒng)，設(shè)計來根據(jù)您的FE-SEM和TEM應用的需要生產(chǎn)非常薄的，細粒度的和導電的金屬和碳涂層，用于分辨率分析。

摘要倍增級磁控鍍膜機主要應用于光電倍增管倍增級表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實現(xiàn)對光電倍增管的倍增級基底進行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工藝測試等功能，可進行數(shù)字化編程、程序控制和動態(tài)監(jiān)測，能夠?qū)崟r顯示、記錄、統(tǒng)計、計算、保存、輸出各種運行數(shù)據(jù)，...

摘要 該設(shè)備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積。可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質(zhì)復合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機為雙腔室，共用高真空系統(tǒng)；為避免交叉污染，一個腔室可實現(xiàn)電子槍/電阻蒸發(fā)鍍膜，另一腔室可實現(xiàn)濺射鍍膜。

摘要 該設(shè)備可沉積單金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，多層膜；主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜（耐磨、防腐、導電膜、絕緣膜等）的研發(fā)和小批生產(chǎn)。

摘要磁控濺射鍍膜機是應用泛的PVD沉積設(shè)備，可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質(zhì)復合膜和其他化學反應膜，亦可鍍鐵磁材料。該設(shè)備主要用于實驗室制備光學膜層，電學，光電膜層及其它功能膜層，以及制備用于生長納米材料的催化...

摘要 該設(shè)備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜，可進行反應濺射；用于硬質(zhì)膜，裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。

摘要 該設(shè)備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積；可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質(zhì)復合膜，亦可鍍鐵磁材料。

摘要 該設(shè)備為高真空多用途電阻蒸發(fā)鍍膜機，四對電極可單獨或同時蒸發(fā)不同的材料。設(shè)備為立式頂開蓋結(jié)構(gòu)，四對電極可單獨或共蒸發(fā)，樣品Φ300（max），樣品臺公自轉(zhuǎn)，公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速2-20rpm可調(diào)；流量計控制氣體流量，滿足離子轟擊壓力要求。

摘要該設(shè)備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質(zhì)膜等，用戶可以根據(jù)工藝的需要選擇單靶獨立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設(shè)備由主腔室和預備室兩個真空室組成。主腔室用于鍍制薄膜，完成用戶主要鍍膜工藝過程。預備室通過高真空插板閥與主腔室相連，可以用于鍍...

摘要倍增級磁控鍍膜機主要應用于光電倍增管倍增級表面的銻膜鍍制。在膜層制備過程中可實現(xiàn)對光電倍增管的倍增級基底進行烘烤除氣、離子轟擊清潔、膜層沉積和偏電壓輔助、膜厚工藝測試等功能，可進行數(shù)字化編程、程序控制和動態(tài)監(jiān)測，能夠?qū)崟r顯示、記錄、統(tǒng)計、計算、保存、輸出各種運行數(shù)據(jù)，...

摘要 產(chǎn)品詳情更多光學鍍膜機是用于紅外截止濾光片、分色濾光片等光學鏡片成膜的真空鍍膜裝置

摘要 浸漬提拉鍍膜機浸漬提拉鍍膜機是適用于溶膠-凝膠法（Sol--Gel法，簡稱SG法）制備薄膜的浸漬提拉法的一款高精度儀器

摘要 DH-450系列高真空鍍膜機為箱式前開門電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，采用系統(tǒng)框架，結(jié)構(gòu)緊湊，外觀更漂亮，使用更安全

摘要 半導體加熱管真空鍍膜機用電熱管光伏設(shè)備用發(fā)熱管加熱板廠家直供

摘要浸漬提拉鍍膜機ZRX-29319是適用于溶膠-凝膠法（Sol--Gel法，簡稱SG法）制備薄膜的浸漬提拉法的款精度儀器。核心部件采用口配件，控制提拉速度，多次重復鍍膜無位置偏差。提拉速度、提拉度、浸漬時間、循環(huán)鍍膜次數(shù)、下降速度、停留時間均可以通過程序控制。適用于玻璃...

摘要 低真空鍍膜機噴金儀|噴碳儀|蒸鍍儀LeicaEMACE200為SEM和TEM分析生產(chǎn)同質(zhì)和導電的金屬或碳涂層，之前從未有過比與LeicaEMACE200涂層系統(tǒng)更方便的設(shè)備了

摘要 濺射鍍膜機LeicaEMACE600碳、電子束和濺射鍍膜——精度值得信賴使用EMACE600濺射鍍膜機，充滿信心地制備用于電鏡分析的細粒度薄膜

摘要 產(chǎn)品簡介：臺式磁控濺射鍍膜機可提供單陰極和雙陰極配置。所有磁控管濺射配置均為向下濺射模式。···

摘要 產(chǎn)品簡介：NE-800C型熱蒸發(fā)鍍膜機能通過對碳纖維繩加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成···

摘要 一.產(chǎn)品應用本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料

摘要小型蒸鍍儀熱蒸發(fā)鍍膜機KT-Z1650CVD是一款小型臺式蒸發(fā)功率可控蒸發(fā)鍍膜儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動擋板功能。通過定時調(diào)節(jié)預熱功率及蒸發(fā)功率，可對大部分金屬進行均勻蒸發(fā)沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品...

摘要真空電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機CRTE直徑觀察口匹配雙級旋轉(zhuǎn)葉片泵的渦輪分子真空泵系統(tǒng)帶沉積控制器的石英晶體厚度傳感器帶數(shù)字顯示和讀數(shù)的全量程真空計最多四個帶獨立百葉窗的電阻熱源半自動控制系統(tǒng)真空電阻式熱蒸發(fā)鍍膜機具有箱形或D形腔室，其數(shù)量與的源數(shù)量相同,標準真空系統(tǒng)是渦輪或...

摘要 NadetechND-DC浸漬鍍膜機是一種自動化的單元，是一款采用垂直提拉法的浸漬鍍膜機

摘要 上海伯東代理超高真空磁控濺射鍍膜機. 真空度高 5E-10 Torr, 特比適合生長高質(zhì)量的薄膜或超薄膜, 金屬與絕緣材料. 使用德國 Pfeiffer 分子泵和美國 KRI 離子源.

摘要 上海伯東代理 E-Beam 電子束蒸發(fā)鍍膜機 ( 電子蒸鍍 ), zui大真空度可達 5E-10 torr, 提供客制化服務.

摘要 KSVNIMADipCoater浸漬鍍膜機儀器簡介：儀器用途：用于溶液中的物質(zhì)在基片上的成膜儀器原理：固體基片在沒有表面壓縮時

摘要 把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程，稱為真空蒸發(fā)鍍膜，簡稱蒸發(fā)鍍膜或蒸鍍

摘要 利用優(yōu)異保溫效果的坩堝實現(xiàn)有機物材料的穩(wěn)定蒸發(fā)，同時借助超高精度的石英晶振達到蒸發(fā)速率的確控制，矽碁科技可提供性能穩(wěn)定的有機物蒸發(fā)鍍膜機，主要用于有機物材料驗證，OELD器件鍍膜機，OPV器件鍍膜機，有機CMOS鍍膜機等

摘要 立式線性連續(xù)磁控濺射適用于大尺寸基板產(chǎn)品的研發(fā)及生產(chǎn)，設(shè)備由進樣室，濺鍍室，出樣室和基片傳遞機構(gòu)組成，可實現(xiàn)連續(xù)鍍膜，廣泛應用于顯示器件及光伏電池薄膜的開發(fā)及生產(chǎn)

摘要 對傳統(tǒng)熱蒸發(fā)技術(shù)難以實現(xiàn)的材料蒸發(fā)，可采用電子束蒸發(fā)(E-beamEvaporation)的方式來實現(xiàn)

摘要 多工位磁控濺射鍍膜機可同時放置多片基片，適應研發(fā)線或中試線的小批量生產(chǎn)

摘要 矽碁超高真空磁控濺射鍍膜機采用國際UHV配件及金屬密封件，本底真空可達到10-9~10-10Torr量級