高溫磁場退火爐可以將被測樣品同時置身于強磁場、高真空、高溫環(huán)境中。同時也可以單獨或任意組合這三種實驗環(huán)境，滿足不同樣品在不同環(huán)境下的測試要求。適應范圍：軟磁材料及需要在高溫、高真空、強磁場環(huán)境加熱和退火的各種材料。

系統(tǒng)原理

高溫磁場退火爐系統(tǒng)是一套自動控制磁場、溫度、真空環(huán)境獲得的設備。系統(tǒng)通過真空加熱爐、電磁鐵、高精度恒流電源、計算機整體連接，形成一套閉環(huán)控制系統(tǒng)。本系統(tǒng)采用的控制方式：

◆ 磁場控制：用戶可以直接通過軟件設定所需要的磁場大小，由高斯計讀取實際磁場，從而將磁場信號反饋給計算機，通過軟件處理后直接由計算機控制高精度恒流電源的輸出電流，從而實現(xiàn)用戶所需要的磁場；

◆ 溫度控制：通過軟件直接設置所需要的溫度值，由溫度傳感器反饋給計算機，再由計算機軟件處理后控制高溫爐加熱控制器，從而實現(xiàn)用戶所需要的不同溫度；

◆ 真空環(huán)境：通過分子泵組獲得真空環(huán)境，由高真空真空計顯示并監(jiān)視，同時把監(jiān)測到的信號傳遞給計算機。

◆ 以上控制可以閉環(huán)，也可以開環(huán)，也可以單獨或任意組合這三種實驗環(huán)境，滿足不同樣品在不同環(huán)境下的測試要求。

◆ 退火過程: 在強磁場（或無磁）環(huán)境下對樣品進行加熱,加熱到一定溫度時（用戶根據(jù)需要自己設定）,持續(xù)加一個定磁場并控制溫度一段時間，在磁場恒定的情況下停止加熱進行冷卻（通入惰性氣體可以快速冷卻）。直至冷卻到室溫，關閉磁場。

主要技術指標

◆ 本系統(tǒng)真空室及主要零部件材質均為304不銹鋼

◆ 本系統(tǒng)采用的真空獲得系統(tǒng)為分子泵系統(tǒng)；真空測量采用數(shù)顯真空計

◆ 系統(tǒng)真空度及漏率：① 真空室極限真空度5*10-4Pa(冷態(tài))；②漏率<10-8pa.l>

◆ 加熱溫度1000℃；控溫精度：±1℃

◆ 加熱時采用惰性氣體保護（選件）

◆ 自然冷卻或通入惰性氣體快速冷卻

◆ 配備磁場

系統(tǒng)組成

◆ 真空加熱爐和控制器

◆ 真空獲得及測量設備

◆ 強磁場獲得設備（電磁鐵或超導磁體）

◆ 循環(huán)水冷機

備注：產品技術參數(shù)如有變化，請以公司提供的紙質資料為準