PL-XG3 大容量 光化學反應儀

PL-XG3 大容量 光化學反應儀廣泛應用化學合成、光降解、氣液反應、液相介質、固定或流動體系、模擬紫外光和可見光光照，以及反應容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學反應。具有提供分析反應產物和自由基的樣品，測定反應動力學常數(shù)，測定量子產率等功能，環(huán)境保護以及生命科學等研究領域

一、光化學反應儀光源（一控二型）

氙燈和汞燈光源在光催化研究領域是比較理想的模擬光源，該光源可實現(xiàn)使用配套靈活，操作安全簡單?？捎糜谧贤夤饧翱梢姽獾母黝悓嶒灱把芯繗庀嗷蛞合嘟橘|、固定或流動體系、紫外光或可見光模擬照射條件下的光化學反應，廣泛應用光降解、化學合成、環(huán)境保護以及生命科學等研究領域。

光化學反應儀光源技術參數(shù)：

二、光催化反應瓶

（可根據(jù)客戶實驗要求定做各類反應器）

示意圖

技術參數(shù)：

三、光化學反應儀防護箱

光化學反應防護箱采用*門機構，帶有獨立的排氣系統(tǒng)及管道，有效的把實驗系統(tǒng)和光源所產生的有害氣體排出室外或排至通風口，防護箱并且?guī)в袃蓚€觀察孔并帶有濾光片，利于隨時觀察實驗狀態(tài)。箱體內部空間足夠大，可以兼容多種光催化系統(tǒng)?？筛鶕?jù)客戶實驗需求開孔或定制各類防護箱。

技術特點：

1、采用*門設計，使用方便。

2、有獨立的觀察孔，并配有濾光片。

3、內部配有電源插座，方便內部電器用電。

4、帶獨立排風系統(tǒng)，保證反應箱內空氣流動及降低內部溫度。

5、外形尺寸600mmx500mmx900mm（長寬高）。

防護箱技術參數(shù)：

四、低溫水槽（客戶可自主選配）

   DC低溫水槽廣泛用于石油、化工、電子儀表、物理、化學、生物工程、醫(yī)藥衛(wèi)生、生命科學、輕工食品、物性測試及化學分析等研究部門、高等院校，為用戶工作時提供一個制冷控制，對試驗樣品或生產的產品在槽內直接進行恒定溫度試驗或測試，作為輔助制冷的溫度來源,如對反應釜、光化學反應儀，全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的控溫。

技術特點：

1、全封閉環(huán)保壓縮機制冷系統(tǒng)。

2、溫度范圍：可選5-35℃。

3、內循環(huán)功能：采用磁力循環(huán)泵，避免傳統(tǒng)水泵因自身產熱而影響槽體溫場。

4、機身外殼采用防老化靜電噴塑技術。

技術參數(shù)：