詳細摘要： 該設備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機為雙腔室，共用高真空系統...
產品型號：所在地：北京市更新時間：2025-01-11 在線留言北京中科科美科技股份有限公司
北京中科科美科技股份有限公司
詳細摘要： 該設備用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜，亦可鍍鐵磁材料。圖示鍍膜機為雙腔室，共用高真空系統...
產品型號：所在地：北京市更新時間：2025-01-11 在線留言
詳細摘要： 該設備可沉積單金屬、合金、及多種介質膜，多層膜；主要用于Φ150-Φ500輪轂型金屬、非金屬零件表面沉積各類功能膜（耐磨、防腐、導電膜、絕緣膜等...
產品型號：所在地：北京市更新時間：2025-01-10 在線留言
詳細摘要： 磁控濺射鍍膜機是應用泛的PVD沉積設備，可用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其他化學反應膜，亦...
產品型號：所在地：北京市更新時間：2025-01-10 在線留言
詳細摘要： 該設備可沉積金屬、合金、及多種介質膜，可進行反應濺射；用于硬質膜，裝飾膜及其它功能膜的研究開發。
產品型號：所在地：北京市更新時間：2025-01-10 在線留言
詳細摘要： 該設備在同一真空室內具有熱蒸發和磁控濺射鍍膜功能，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積；可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜，亦可鍍...
產品型號：所在地：北京市更新時間：2025-01-10 在線留言
詳細摘要： 該設備為高真空多用途電阻蒸發鍍膜機，四對電極可單獨或同時蒸發不同的材料。設備為立式頂開蓋結構，四對電極可單獨或共蒸發，樣品Φ300（max），樣品臺公自...
產品型號：所在地：北京市更新時間：2025-01-10 在線留言
詳細摘要： 該設備用于通過磁控濺射法沉積金屬薄膜、陶瓷膜、介質膜等，用戶可以根據工藝的需要選擇單靶獨立工作、四靶輪流工作或四靶任意組合共濺等工作模式。該設備由主腔室和預備室...
產品型號：所在地：北京市更新時間：2025-01-10 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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