上海翰軍實驗設備有限公司
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一、概述此套系統H-CVD-1200S前端配有可加熱到0-1000℃的蒸發器，輔助固體源蒸發，后端為雙溫區硫化爐，溫度控制精確，操作簡便
一、概述
此套系統H-CVD-1200S前端配有可加熱到0-1000℃的蒸發器，輔助固體源蒸發，后端為雙溫區硫化爐，
溫度控制精確，操作簡便。左端配有法蘭支撐架固態蒸發器器和高溫反應區一起滑動。右端可配氣氛
微調裝置，可以準確的反應腔體內部的氣體壓力，帶刻度的調節閥對于做低壓CVD非常實用，重復性好；
真空機組裝有真空粉塵過濾器以保護機械式真空泵不被硫粉塵損壞。整套系統可在1200℃以下的工藝溫
度穩定氣相沉積二硫化鉬等二維化合物材料。
二、設備組成
HTF-1100蒸發器，HTF-1200D雙溫區管式爐(一體式)。
三、主要技術參數
蒸發器 | 型號：HTF-1100 工作溫度：室溫-1000℃ 溫度：1050℃ 升溫速率：30℃/min 推薦升溫速率：10℃/min 控溫方式：智能化30段可編程控制 工作電壓：AC220 V 額定功率：1000W 控溫精度：±1℃ 加熱元件：電阻絲 加熱區長度（mm）：150mm |
雙溫區 | 型號：HTF-1200D 技術參數： 額定功率(KW):3 額定電壓(V):AC220v 50/60 Hz 溫度(℃):1200（1 hour） 持續工作溫度(℃）：1100 升溫速率（℃/min）：≤50 爐管尺寸（mm）： 高純石英管Φ50×1500mm 加熱區長度（mm）：150/300mm 恒溫區長度（mm）:100/120mm 控溫方式:模糊PID控制和自整定調節，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶報警功能 控溫精度(℃):±1 加熱元件:電阻絲 |
配件 | 配真空粉塵過濾器，DN25手動蝶閥用于控制爐管內壓力，防腐型數顯真空計，三路混氣系統（可選） |
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